CW လေဆာသန့်ရှင်းရေးစက်၏ အသုံးချမှုနိယာမသည် photothermal effect နှင့် photomechanical effect ပေါ်တွင် အခြေခံထားသည်- မြင့်မားသောစွမ်းအင်သိပ်သည်းဆရှိသော စဉ်ဆက်မပြတ်လေဆာရောင်ခြည်သည် workpiece ၏မျက်နှာပြင်ကို ရောင်ခြည်ဖြာထွက်စေပြီး မျက်နှာပြင်ညစ်ညမ်းမှုများ (ဥပမာ သံချေး၊ ဆီ၊ အပေါ်ယံလွှာကဲ့သို့) သည် စွမ်းအင်ကို ချက်ချင်းစုပ်ယူပြီး အပူချိန်၊ အငွေ့ပျံခြင်း သို့မဟုတ် တိုက်ရိုက်ကွာကျခြင်းကို လျင်မြန်စွာဖြစ်ပေါ်စေပြီး အခြေခံပစ္စည်းမှာ ၎င်း၏စုပ်ယူမှုနှုန်းနည်းပါးခြင်း သို့မဟုတ် အပူစီးကူးမှုမြန်ဆန်ခြင်းကြောင့် မပျက်စီးဘဲရှိနေသောကြောင့် မြင့်မားသောတိကျမှု၊ ထိတွေ့မှုမရှိသော “အေးသောသန့်ရှင်းရေး” ကို ရရှိစေပါသည်။